новости компании о "Невидимый убийца" ультрафиолетового отверждения: анализ механизма и решение ингибирования кислорода

"Невидимый убийца" ультрафиолетового отверждения: анализ механизма и решение ингибирования кислорода

  Будучи одной из самых важных экологически чистых технологий производства в XXI веке, технология ультрафиолетового отверждения (УФ отверждения) играет ключевую роль во многих областях, таких как печать, электроника, автомобили,Тем не менее, ингибирование кислорода является "невидимым убийцей", что серьезно ограничивает производительность и расширение применения технологии ультрафиолетового отверждения.

Наиболее непосредственным проявлением ингибирования кислорода является "клещивость" поверхности покрытия: после облучения ультрафиолетовым светом внутренняя часть покрытия полностью отверждена.но поверхность остается липкойЭто "несовместимое" явление влияет не только на качество внешнего вида продукта,но также может вызвать последующие трудности с обработкой, ухудшение производительности продукта, и даже сброс всей партии продуктов.

С точки зрения производительности продукта, ингибирование кислорода приведет к большому количеству нестабильных окислительных структур на поверхности, вызывающих дефекты, такие как пожелтение и отверстия,которые серьезно влияют на срок службы и надежность продуктаИз-за его уникальной тройной основной структуры скорость реакции молекул кислорода со свободными радикалами на 4-5 порядков больше, чем в обычных реакциях полимеризации.что является основной причиной феномена ингибирования кислорода.

Исследования показали, что посредством комплексных мер, таких как защита от инертной атмосферы, оптимизация формулы и улучшение процессов,может быть эффективно подавлена ингибиция кислорода и значительно улучшена эффективность ультрафиолетового отверждения и качество продукта.

1Физический барьер: метод плавающего воска и метод покрытия.

2Интенсивность света: Простой способ уменьшить подавление кислорода заключается в увеличении интенсивности света, что приведет к формированию более высокой концентрации свободных радикалов,который быстро сочетается с растворенным кислородом и уменьшает его концентрацию.

3Источник света: Технология непрерывного облучения УФ-вспышкой может производить короткие и высокоинтенсивные импульсы ультрафиолетового излучения, тем самым создавая чрезвычайно высокую концентрацию свободных радикалов.Вакуумный ультрафиолетовый свет (например, 172 и 222 нм), излучаемый эксимерной лампой, может вылечить только ультратонкие покрытия 1-2 мкм из-за низкой проницаемости вакуумного ультрафиолетового света; отверждение в этом диапазоне не требует фотоинициатора, соответствующая инициативная концентрация свободных радикалов очень низкая,и существенное количество озона образуется при проведении реакции в воздухе.